偏光顯微鏡之顯微鏡試樣的兩種腐蝕介紹
發(fā)布人：發(fā)布時(shí)間：2015/6/18
顯微鏡試樣會(huì)出現(xiàn)的腐蝕方式有兩種，一種是化學(xué)腐蝕，一種是電解腐蝕，那么這兩種到底是怎么樣呢，那么今天
偏光顯微鏡就來(lái)給大家介紹下，希望能夠增加一下大家的知識(shí)。
化學(xué)腐蝕是將拋光好的樣品磨光面在化學(xué)腐蝕劑中腐蝕一定時(shí)間，從而顯示出其試樣的組織形貌。純金屬及單相合金的腐蝕是一個(gè)化學(xué)溶解的過程。由于晶界上原子排列不規(guī)則，具有較高自由能，所以晶界易受腐蝕而呈凹溝，使組織顯示出來(lái)，在顯微鏡下可以看到多邊形的晶粒。若腐蝕較深，則由于各晶粒位向不同，不同的晶面溶解速率不同，腐蝕后的顯微平面與原磨面的角度不同，在垂直光線照射下，反射進(jìn)入物鏡的光線不同，可看到明暗不同的晶粒。
電解腐蝕所用的設(shè)備與電解拋光相同，只是工作電壓和工作電流比電解拋光時(shí)小。這時(shí)在試樣磨面上一般不形成一層薄膜，由于各相之間和晶粒與晶界之間電位不同，在微弱電流的作用下各相腐蝕程度不同，因而顯示出組織。此法適于抗腐蝕性能強(qiáng)、難于用化學(xué)腐蝕法腐蝕的材料。
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